发明名称 用以将材料黏着在一起的方法及组成物;METHOD AND COMPOSITION FOR ADHERING MATERIALS TOGETHER
摘要 本发明提供一种将一层与基板黏着之方法,其特征为可界定第一及第二介面,其系藉使一组成物存在于该层与基板之间,其可以与该层形成共价键并使用共价键、离子键及凡得瓦尔力(Van der waals forces)中之一或多种与该基板黏着。使用此种方法,可确定该层对该组成物之黏着力强度高于该层对自预定黏着机制,亦即不包括共价键结之黏着机制,所形成之组成物的黏着力。另外,本发明系有关于一种将第一及第二材料黏着在一起之组成物。该组成物具有多官能基反应性化合物的特征,该化合物包括一主链基团及第一与第二官能基;一交联剂,及一触媒。该第一官能基可以与第一光化能反应以形成交联分子并使该等交联分子之亚组与该第一材料黏着。该第二官能基可以与不同于该第一光化能之第二光化能反应以黏着该第二材料。
申请公布号 TWI329239 申请公布日期 2010.08.21
申请号 TW095121031 申请日期 2006.06.13
申请人 分子压模公司 MOLECULAR IMPRINTS, INC. 美国 发明人 徐 法兰克Y
分类号 主分类号
代理机构 代理人 恽轶群 台北市松山区南京东路3段248号7楼;陈文郎 台北市松山区南京东路3段248号7楼
主权项 1.一种将一层与一基板黏着之方法,该方法包括:藉使一组成物存在于该层与该基板之间而界定第一及第二介面,其中该第一介面系被界定在该层与该组成物之间,而该第二介面系被界定在该基板与该组成物之间,且该第一介面包括共价键,而该第二介面包括使该组成物与该基板黏着之机制,其中该第二介面系藉热固化该组成物而形成,且该第一介面系藉使该层与该组成物曝露于光化能下而形成。 ;2.如申请专利范围第1项之方法,其中该机制系选自一组由共价键、离子键及凡得瓦尔力所组成的机制。 ;3.如申请专利范围第1项之方法,其中界定步骤进一步包括固化该组成物、界定经固化组成物及在该经固化组成物上形成该层。 ;4.如申请专利范围第1项之方法,其中界定步骤进一步包括将数个分子定位在该层与该基板之间,其亚组包括有机主链基团及第一与第二官能基,其中该第一官能基可以与该层反应以形成该等共价键,且该第二官能基可以与该基板反应。 ;5.如申请专利范围第1项之方法,其中界定步骤进一步包括将数个分子定位在该层与该基板之间,其第一亚组为交联剂,且其第二亚组包括主链基团及第一与第二官能基,其中该第一官能基可以与该层反应以形成该共价键,而该第二官能基可以与该基板及该交联剂中之一种反应。 ;6.如申请专利范围第5项之方法,其中该主链基团含有芳香族结构。 ;7.如申请专利范围第1项之方法,其中界定步骤进一步包括将数个分子定位在该层与该基板之间,其亚组包括主链基团及第一与第二官能基,其中该第一官能基系由可以与该层反应以形成该等共价键之丙烯酸官能基所组成。 ;8.如申请专利范围第7项之方法,其中该主链基团系选自一组由脂肪族基团及芳香族基团所组成之基团。 ;9.一种用于将第一及第二材料黏着在一起的组成物,该组成物包含:多官能基反应性化合物,其具有主链基团及第一与第二官能基;触媒;及交联剂,其中该第一官能基可以对第一光化能反应以形成交联分子并使该等交联分子之亚组与该第一材料黏着,而该第二官能基系对与该第一光化能不同之第二光化能反应以黏着至该第二材料。 ;10.如申请专利范围第9项之组成物,其中该第一光化能包括热能。 ;11.如申请专利范围第9项之组成物,其中该第二光化能包括宽频紫外线能。 ;12.如申请专利范围第9项之组成物,其中该多官能基反应性化合物具有以下结构:其中x及y为整数。 ;13.如申请专利范围第9项之组成物,其中该多官能基反应性化合物具有以下结构:其中R'、R"及R'''为键结基团,而x、y、z为平均重覆数。 ;14.如申请专利范围第13项之组成物,其中该等键结基团R'、R"及R'''系无规分布于该组成物之中。 ;15.如申请专利范围第9项之组成物,其中该第一官能基系透过选自一组由共价键、离子键及凡得瓦尔力所组成之机制的黏着机制而与该第一材料黏着。 ;16.如申请专利范围第9项之组成物,其中该交联剂包括键结官能基,且该第一官能基藉透过与该交联剂官能基偶合而与该第一材料黏着。 ;17.如申请专利范围第9项之组成物,其中该第二官能基系藉于其间形成共价键而与该第二材料黏着。 ;18.如申请专利范围第9项之组成物,其中该第一官能基系选自一组由羧基、环氧基、羟基及烷氧基基团组成之官能基。 ;19.如申请专利范围第9项之组成物,其中该第二官能基系选自一组由丙烯酸及乙烯醚基团组成之官能基。;第1图为根据先前技艺之微影系统的简化平面图;第2图为根据本发明沉积在基板上之模板及压印材料之简化立视图;第3图为第2图所示之模板及基板的简化立规图,其中该压印材料系以在该层上经图案化及固化之形式表示;第4图为接触压印材料之该模板的横断面图,其可证明经固化压印材料与模板间之弱边界层的形成。;第5图为第2图所示之压印材料小滴的详图,其表示该等小滴在表面活化剂富集区域及表面活化剂耗乏区域内之分叉;第6图为使用旋涂式技术沉积之压印材料层的详图,其系表示该层在表面活化剂富集区域及表面活化剂耗乏区域内之分叉;第7图为接触经固化压印材料,其系如第5或第6图所示经沉积并在包括底涂层之基板上形成,之该模板的横断面图;第8图为表示根据本发明之一实施例,可使用以形成第2、3,及7图所示之底涂层的组成物组成之化学结构的平面图;第9图为表示根据本发明之第二实施例,可使用以形成第2、3,及7图所示之底涂层的组成物组成之化学结构的平面图;第10图为表示根据本发明之第三实施例,可使用以形成第2、3,及7图所示之底涂层的组成物组成之化学结构的平面图;第11图为表示根据本发明之第四实施例,可使用以形成第2、3,及7图所示之底涂层的组成物组成之化学结构的平面图。
地址 MOLECULAR IMPRINTS, INC. 美国