| 摘要 |
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Vorrichtung sowie ein entsprechendes Verfahren zur Überwachung der Orientierung mindestens eines Spiegels (4), insbesondere einer Vielzahl von Spiegeln in einem Spiegelfeld, wie es beispielsweise in einer Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithografie eingesetzt werden kann. Gemäß der Erfindung wird eine Erfassungseinrichtung (1) zur Erfassung des von dem Spiegel reflektierten Lichts vorgesehen, wobei eine Musterquelle (2) angeordnet ist, die ein Muster (3) mit räumlichen und/oder zeitlich variablen Lichtquellen bereitstellt, welches von dem mindestens einen Spiegel auf die Erfassungseinrichtung gespiegelt wird. Aus dem von der Erfassungseinrichtung erfassten Spiegelbild kann die Orientierung des Spiegels ermittelt werden.
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