发明名称 Ablenkvorrichtung für Gerät zur Elektronenstrahllithographie sowie Gerät zur Elektronenstrahllithographie
摘要
申请公布号 DE102007006504(B4) 申请公布日期 2010.08.19
申请号 DE200710006504 申请日期 2007.02.09
申请人 NUFLARE TECHNOLOGY INC. 发明人 SANMIYA, YOSHIMASA;OHTOSHI, KENJI;NISHIYAMA, TETSURO
分类号 H01J37/147;H01J37/30;H01L21/683 主分类号 H01J37/147
代理机构 代理人
主权项
地址