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发明名称
Ablenkvorrichtung für Gerät zur Elektronenstrahllithographie sowie Gerät zur Elektronenstrahllithographie
摘要
申请公布号
DE102007006504(B4)
申请公布日期
2010.08.19
申请号
DE200710006504
申请日期
2007.02.09
申请人
NUFLARE TECHNOLOGY INC.
发明人
SANMIYA, YOSHIMASA;OHTOSHI, KENJI;NISHIYAMA, TETSURO
分类号
H01J37/147;H01J37/30;H01L21/683
主分类号
H01J37/147
代理机构
代理人
主权项
地址
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