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Es ist ein Verfahren offenbart, das zur Kalibrierung eines Messtisches (20) einer Koordinaten-Messmaschine (1) geeignet ist. Hierzu wird eine Maske (2) in einer Dreipunkt-Auflage des Messtisches (20) abgelegt, wobei die für die Kalibrierung des Messtisches (20) verwendete Maske (2) eine Maske (2) ist, die für die Halbleiterherstellung verwendet wird. Es erfolgt das Messen von Positionen einer Vielzahl von unterschiedlichen, auf der Maske (2) verteilt angeordneten Strukturen (3). Die Strukturen (3) liegen in einer Anfangsorientierung auf der Maske (2) vor. Die Maske (2) wird gedreht und die Position der Strukturen (3) wird in der gedrehten Orientierung bestimmt. Anschließend wird die Maske (2) verschoben und ebenfalls die Position der Strukturen (3) bestimmt. Es wird eine Gesamtkorrekturfunktion zur Beseitigung der Koordinaten-abhängigen Messfehler ermittelt, wobei die Gesamtkorrekturfunktion aus einer ersten Korrekturfunktion und einer zweiten Korrekturfunktion besteht.
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