| 发明名称 |
METHOD AND APPARATUS FOR DERIVING AN ISO-DENSE BIAS AND CONTROLLING A FABRICATION PROCESS |
| 摘要 |
Embodiments of controlling a fabrication process using an iso-dense bias are generally described herein. Other embodiments may be described and claimed. |
| 申请公布号 |
KR20100091987(A) |
申请公布日期 |
2010.08.19 |
| 申请号 |
KR20107011378 |
申请日期 |
2008.10.30 |
| 申请人 |
TOKYO ELECTRON LIMITED |
发明人 |
BISCHOFF JOERG;WEICHERT HEIKO |
| 分类号 |
H01L21/66;G01B11/30;G01N21/95;G01N23/20 |
主分类号 |
H01L21/66 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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