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发明名称
Halbleiterbauelement und Verfahren für die Verformungserzeugung in siliziumbasierten Transistoren durch Anwendung von Implantationstechniken zur Herstellung einer verformungs-induzierenden Schicht unter dem Kanalgebiet
摘要
申请公布号
DE102007025336(B4)
申请公布日期
2010.08.19
申请号
DE200710025336
申请日期
2007.05.31
申请人
ADVANCED MICRO DEVICES INC.
发明人
GRIEBENOW, UWE;FROHBERG, KAI;GERHARDT, MARTIN
分类号
H01L21/336;H01L21/8238;H01L27/088;H01L29/78
主分类号
H01L21/336
代理机构
代理人
主权项
地址
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