掩模坯体以及压印用模具的制造方法

摘要

本发明提供一种使用掩模坯体而形成有高精度细微图案的压印用模具的制造方法。在透光性基板上具有用于形成图案的薄膜的掩模坯体中，薄膜由上层和下层构成，上层由包含铬(Cr)和氮的材料形成，下层由包含以钽(Ta)为主要成分的化合物，并且能够通过使用了氯系气体的干蚀刻处理进行蚀刻加工的材料形成。通过使用了实质上不包含氧的氯系气体的干蚀刻处理对薄膜的上层和下层进行蚀刻加工，接着通过使用了氟系气体的干蚀刻处理对基板进行蚀刻加工，由此得到压印用模具。

主权项

一种掩模坯体，其在透光性基板上具有用于形成图案的薄膜，该掩模坯体用于与压印用模具的制作方法相对应的干蚀刻处理，该压印用模具的制作方法通过使用了实质上不包含氧的蚀刻气体的干蚀刻处理对所述薄膜和所述基板进行蚀刻加工，该掩模坯体的特征在于，所述薄膜至少由上层和下层的层叠膜构成，所述上层由包含铬(Cr)和氮的材料形成，所述下层由包含以钽(Ta)为主要成分的化合物、或者包含铪(Hf)和锆(Zr)中至少一种元素或其化合物，并且能够通过使用了氯系气体的干蚀刻处理进行蚀刻加工的材料形成。