发明名称 |
磁记录介质的制造方法和磁记录再生装置 |
摘要 |
本发明提供一种制造具有磁分离了的磁记录图形的磁记录介质的方法,该方法的特征在于,包括按以下的(1)~(3)的顺序进行实施的3个工序:(1)在非磁性基板上形成磁性层的工序;(2)除去将磁性层磁分离的区域的磁性层表层部分的工序;(3)将通过除去该磁性层表层部分而露出的磁性层区域的表面暴露于反应性等离子体或反应性离子,降低该磁性层区域的矫顽力和残余磁化,由此形成被具有改性了的磁特性的磁性层区域磁分离的磁记录图形的工序。根据该方法能够高生产率地制造具有增大的记录密度并且消除了磁记录时溢写的磁记录介质。 |
申请公布号 |
CN101809658A |
申请公布日期 |
2010.08.18 |
申请号 |
CN200880109314.8 |
申请日期 |
2008.07.24 |
申请人 |
昭和电工株式会社 |
发明人 |
福岛正人;坂脇彰;山根明 |
分类号 |
G11B5/65(2006.01)I;G11B5/82(2006.01)I;G11B5/84(2006.01)I |
主分类号 |
G11B5/65(2006.01)I |
代理机构 |
北京市中咨律师事务所 11247 |
代理人 |
段承恩;陈海红 |
主权项 |
一种磁记录介质的制造方法,是具有磁分离了的磁记录图形的磁记录介质的制造方法,其特征在于,包括按以下的(1)、(2)、(3)的顺序进行实施的3个工序:(1)在非磁性基板上形成磁性层的工序;(2)除去将磁性层磁分离的区域的磁性层表层部分的工序;(3)将通过除去该磁性层表层部分而露出的磁性层区域的表面暴露于反应性等离子体或反应性离子,对该磁性层区域的磁特性进行改性,由此形成被具有改性了的磁特性的磁性层区域磁分离的磁记录图形的工序。 |
地址 |
日本东京都 |