发明名称 |
光刻装置和器件制造方法 |
摘要 |
本发明公开了一种浸没光刻装置,在所述装置中,一个或多个液体分流器设置在液体限制结构所包围的间隙中。液体分流器的功能是阻止一个或多个浸没液体回流区的形成,回流区可以导致在所述间隙中的浸没液体的折射率改变,进而造成成像错误。 |
申请公布号 |
CN1811601B |
申请公布日期 |
2010.08.18 |
申请号 |
CN200610008927.5 |
申请日期 |
2006.01.12 |
申请人 |
ASML荷兰有限公司 |
发明人 |
P·M·M·列布雷格特斯;J·H·W·雅各布斯;T·尤得迪杰克 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
王波波 |
主权项 |
一种光刻投射装置,它被布置成能从构图装置起经过被限制在衬底附近的间隙中的液体地将图案投射到衬底上,所述光刻投射装置包括在所述间隙中的、用于促进液体流过所述间隙的多个液体分流器,其中,所述多个液体分流器中的至少一个能够转动,所述液体分流器被构造成在一个基本平行于所述衬底的平面的方向上分流所述液体,所述液体在垂直于衬底的扫描方向的方向上流过所述间隙。 |
地址 |
荷兰维尔德霍芬 |