发明名称 具有覆引线的磁记录头
摘要 本发明涉及一种带覆引线垫的磁头,所述覆引线垫接触所述硬偏置结构之间所述传感器的顶表面且不接触所述硬偏置结构,所述硬偏置结构从与所述传感器的直接接触电绝缘。所述传感器顶上所述引线垫接触区域通过导电材料的侧壁沉积定义从而在形成所述引线的其余部分之前在光致抗蚀剂上形成引线垫。以浅角沉积用于所述引线垫的导电材料从而最大化抗蚀剂上的侧壁沉积,然后以陡角离子研磨从而从水平区域去除所述导电材料且同时留下所述侧壁材料。绝缘层以陡角沉积在所述引线材料上,然后以浅角研磨从而从所述侧壁去除绝缘。
申请公布号 CN1920956B 申请公布日期 2010.08.18
申请号 CN200610121581.X 申请日期 2006.08.23
申请人 日立环球储存科技荷兰有限公司 发明人 陈重元;弗雷德里克·H·迪尔;詹姆斯·M·弗赖塔格;何国山;威普尔·P·贾亚塞卡拉;李金阳;马斯塔法·M·皮纳巴西;曾庆骅;帕特里克·R·韦布
分类号 G11B5/33(2006.01)I;G11B5/39(2006.01)I 主分类号 G11B5/33(2006.01)I
代理机构 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人 张波
主权项 一种在晶片上制造薄膜磁传感器的方法,包括步骤:沉积用于薄膜磁传感器的薄膜层的堆叠;在所述薄膜磁传感器的第一和第二侧在预定位置研磨开口;在所述开口处形成第一和第二硬偏置结构;在所述磁传感器的选择来作为第一和第二引线垫之间的所述传感器的有源区域的预定中央区域之上形成抗蚀剂垫;从沉积在所述抗蚀剂垫的侧壁上与所述磁传感器电接触且与所述硬偏置结构电绝缘的导电材料形成第一和第二引线垫;以及在所述晶片上沉积导电引线材料,所述导电引线材料与第一和第二引线垫电接触。
地址 荷兰阿姆斯特丹