发明名称 Method for forming the contact hall of semiconductor memory device
摘要
申请公布号 KR100976684(B1) 申请公布日期 2010.08.18
申请号 KR20080075748 申请日期 2008.08.01
申请人 发明人
分类号 H01L21/28 主分类号 H01L21/28
代理机构 代理人
主权项
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