发明名称 | 一种集成电路设计方法 | ||
摘要 | 一种集成电路(IC)设计方法,包括基于IC器件的IC设计布图和IC制造数据来提供IC布图轮廓;生成有效矩形布图来代表IC布图轮廓;以及利用有效矩形布图来仿真IC器件。 | ||
申请公布号 | CN101807219A | 申请公布日期 | 2010.08.18 |
申请号 | CN200910169436.2 | 申请日期 | 2009.09.09 |
申请人 | 台湾积体电路制造股份有限公司 | 发明人 | 郑英周;赖志明;欧宗桦;董易谕;赵孝蜀;吴旻鸿;侯永清;刘如淦;郑仪侃;辜耀进 |
分类号 | G06F17/50(2006.01)I | 主分类号 | G06F17/50(2006.01)I |
代理机构 | 北京市德恒律师事务所 11306 | 代理人 | 梁永 |
主权项 | 一种集成电路(IC)设计方法,包括:基于IC器件的IC设计布图和IC制造数据来提供IC布图轮廓;生成有效矩形布图来代表该IC布图轮廓;以及利用该有效矩形布图来仿真该IC器件。 | ||
地址 | 中国台湾新竹 |