| 发明名称 | 基板处理设备 | ||
| 摘要 | 一种基板处理设备包括腔室，提供反应区域及包括彼此相对的第一及第二边；模块，连接到所述第一边；上电极，位于所述反应区域中；基板座，面对着所述上电极，其中在所述基板座上设置基板，且在所述基板上定义第一及第二点，其中所述第一点对应所述基板的中心，而所述第二点远离所述第一点而朝向着所述第一边；以及馈电线，用以施加RF功率，所述馈电线连接到上电极且对应着所述第二点。 | ||
| 申请公布号 | CN101807508A | 申请公布日期 | 2010.08.18 |
| 申请号 | CN200910254177.3 | 申请日期 | 2009.12.10 |
| 申请人 | 周星工程股份有限公司 | 发明人 | 康豪哲 |
| 分类号 | H01J37/32(2006.01)I;H05H1/46(2006.01)I | 主分类号 | H01J37/32(2006.01)I |
| 代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人 | 邬少俊;王英 |
| 主权项 | 一种基板处理设备，包括：腔室，提供反应区域及包括彼此相对的第一及第二边；模块，连接到所述第一边；上电极，位于所述反应区域中；基板座，面对着所述上电极，其中在所述基板座上设置基板，且在所述基板上定义第一及第二点，其中所述第一点对应所述基板的中心，而所述第二点远离所述第一点而朝向着所述第一边；以及馈电线，用以施加RF功率，所述馈电线连接到所述上电极且对应着所述第二点。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||