光刻装置和器件制造方法

摘要

光刻装置包括第一可移动元件(例如浸入供液系统)，其在操作中与第二可移动元件(例如衬底台)的表面接触。另外，该光刻装置包括用于控制第二可移动元件的位置量的第二元件控制器(例如衬底台控制器)。由例如第一和第二可移动元件相对于彼此的移动所引起的干扰力，由于毛细管力的缘故扰乱了第一和第二可移动元件的位置。为了至少部分地纠正由于这种干扰力的第二可移动元件的位置，该光刻装置包括用于将干扰力前馈信号提供给第二元件控制器的前馈控制路径，该前馈控制路径包括用于根据第一可移动元件的位置量来估计干扰力的干扰力估计器。

主权项

一种用于光刻装置中的系统，包括：第一可移动元件，其包括设置以包含液体的供液系统；第二可移动元件，该第二可移动元件的表面与第一可移动元件接触；第二元件位置控制器，其被配置以控制第二可移动元件的位置量，以及前馈控制路径，其被配置以将干扰力前馈信号提供给第二元件位置控制器，该前馈控制路径包括干扰力估计器，其被配置以根据所述供液系统的位置量来估计干扰力；其中第二可移动元件包括被构造以支持衬底的衬底台，第二元件位置控制器包括用于控制衬底台的位置量的衬底台控制器，第一可移动元件在操作中与由衬底台所支持的衬底的表面接触。