涂敷及显影装置、涂敷及显影方法、和存储介质

摘要

本发明涉及涂敷以及显影装置、涂敷以及显影方法和存储介质，提供一种能够抑制在对基板进行处理的各模块间进行基板输送的输送机构的输送速度，抑制基板的输送精度下降的涂敷及显影装置。其中，设置了多个的各抗蚀剂膜形成块的抗蚀剂膜形成用输送单元相互独立，在该块内进行各种处理的模块之间输送基板，处理块运入用输送单元将基板一枚一枚地顺序地周期地向各抗蚀剂膜形成块的运入用交接台输送，并且曝光装置运入用输送单元以向抗蚀剂膜形成块的运入用交接台输送的顺序，将运入各抗蚀剂膜形成块的缓冲模块的基板运入曝光装置。与为了实现同等的生产能力在一个抗蚀剂膜形成块中设置多个或许多同种的模块的情况相比，能够抑制抗蚀剂膜形成用单元的负荷。

主权项

一种涂敷及显影装置，其特征在于，具备：载具块，通过载具运入基板；处理块，交接被运入上述载具块的上述基板，并且对上述基板形成包含抗蚀剂膜的涂敷膜；以及界面块，将通过上述处理块形成了上述涂敷膜的上述基板输送到曝光装置，上述处理块具有：从上述载具块侧朝向上述界面块侧分别形成的多个抗蚀剂膜形成块；以及从上述载具块侧朝向上述界面块侧形成的显影处理块，在上述载具块上设置有将来自上述载具的上述基板向各抗蚀剂膜形成块输送的处理块运入用输送单元，在上述界面块上设置有用于将上述基板运入上述曝光装置并且从上述曝光装置运出上述基板而向上述显影处理块传送的曝光装置运入用输送单元，上述处理块运入用输送单元将来自上述载具的上述基板一枚一枚顺序地周期地向各抗蚀剂膜形成块输送，并且上述曝光装置运入用输送单元以通过上述处理块运入用输送单元向各抗蚀剂膜形成块输送的顺序，将上述基板从各抗蚀剂膜形成块运入上述曝光装置。