发明名称 |
净化被α辐射体污染的核装置表面的方法 |
摘要 |
本发明涉及用于净化被α辐射体污染的核装置表面的方法,所述方法在以去除氧化物层为目标的净化方法之后实施。利用包含阳离子或两性离子表面活性剂和草酸的水溶液来处理所述表面,其中所述溶液的至少一部分在其作用于对所述表面之后被引导通过离子交换器。 |
申请公布号 |
CN101809675A |
申请公布日期 |
2010.08.18 |
申请号 |
CN200880108505.2 |
申请日期 |
2008.07.16 |
申请人 |
阿利发NP有限公司 |
发明人 |
R·盖森;C·斯蒂帕尼;H-O·博索尔特;B·齐莱尔 |
分类号 |
G21F9/00(2006.01)I;G21F9/28(2006.01)I;G21F9/12(2006.01)I |
主分类号 |
G21F9/00(2006.01)I |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 |
代理人 |
邓毅 |
主权项 |
用于净化被α辐射体污染的核装置表面的方法,所述方法在至少部分去除表面上存在的氧化物层的净化方法之后实施,在所述方法中利用包含阳离子或两性离子表面活性剂和草酸的水溶液来处理所述表面,其中所述溶液的至少一部分在其作用于表面之后被引导通过离子交换器。 |
地址 |
德国埃朗根 |