光刻装置和器件制造方法

摘要

本发明公开了一种光刻装置和器件制造方法。用于湿浸式光刻装置的液体供给系统可以在投影系统的最后一个元件和基底之间提供层流的浸液。控制系统可使溢出的概率最小化，并且引出装置包括配置成使振动最小化的出口阵列。

主权项

一种光刻装置，包括：用于保持基底的基底台；用于投影辐射光束的投影系统；和阻挡元件，其具有围绕投影系统的最后一个元件和基底台之间的空间的表面，所述阻挡元件配置成将液体限制在所述最后一个元件和基底之间、所述最后一个元件和基底台之间或者所述最后一个元件同基底与基底台之间的空间中，所述阻挡元件包括用于从所述空间去除液体的液体出口，其中，所述液体出口是所述阻挡元件的壁中的不均匀孔阵列。