磁靶及具有该磁靶的磁控溅射设备

摘要

本发明公开了一种磁靶及具有该磁靶的磁控溅射设备，涉及磁控溅射技术领域，用以改善靶材区域性消耗严重的问题。本发明实施例提供的磁靶，包括固定板和磁铁，而且所述固定板的板面上枢接有绕枢接轴转动的连杆，所述枢接轴排成阵列，且每个连杆的自由端连接有磁铁；所述磁铁包括间插排布的外围S极磁铁和外围N极磁铁。本发明实施例提供的磁靶及具有该磁靶的磁控溅射设备适用于改善磁控溅射设备中靶材区域性消耗严重的问题。

主权项

一种磁靶，包括固定板和磁铁，其特征在于，所述固定板的板面上枢接有绕枢接轴转动的连杆，所述枢接轴排成阵列，且每个连杆的自由端连接有磁铁；所述磁铁包括间插排布的外围S极磁铁和外围N极磁铁。