发明名称 Method of forming a pattern of a semi conductor
摘要
申请公布号 KR100976664(B1) 申请公布日期 2010.08.18
申请号 KR20080091986 申请日期 2008.09.19
申请人 发明人
分类号 H01L21/027 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利