发明名称 高反射率发光二极管芯片反射灯罩的制造方法
摘要 本发明是关于一种高反射率发光二极管芯片反射灯罩的制造方法。在反射罩内的基板上以磁性物质遮蔽物吸附于基板上以遮蔽一对金属接触垫再进行真空镀膜及其后处理。本发明的制造方法可以达到反射灯罩具有高光反射率的效果。
申请公布号 CN101403482B 申请公布日期 2010.08.18
申请号 CN200810130642.8 申请日期 2008.07.02
申请人 强宇企业股份有限公司 发明人 许文义;许书郁;许书熙
分类号 F21V7/10(2006.01)I;F21V7/22(2006.01)I;F21Y101/02(2006.01)N 主分类号 F21V7/10(2006.01)I
代理机构 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人 任默闻
主权项 一种发光二极管芯片反射灯罩的制造方法,所述的方法至少包含下列步骤:提供一基板,基板上有一反射灯罩,所述的反射灯罩内基板表面上具有至少一金属接触对;提供一具导磁特性的遮蔽物体;将所述的导磁遮蔽物体置入所述的反射灯罩内的所述的基板上以遮盖所述的金属接触对;置另一磁铁或电磁铁于所述的基板下方,用以固定所述的遮蔽物;进行真空镀膜步骤以形成一金属膜于所述的反射灯罩上;及移除所述的遮蔽物。
地址 中国台湾彰化县