发明名称 含有有机物的水的处理方法和处理装置
摘要 本发明涉及含有有机物的水的处理方法和处理装置,该方法和装置可在电子设备制造工厂中使用的超纯水制备系统中、在包含活性碳处理和后段的RO膜分离处理的流程中,抑制活性碳塔内以及反渗透膜分离装置中的微生物的增殖、可长期稳定地处理。在上述含有有机物的水的处理方法中,使用结合氯系氧化剂作为上述氧化剂,该方法包含以下步骤:在含有有机物的水中添加氧化剂的氧化剂添加步骤;将经过了该氧化剂添加步骤的上述含有有机物的水用活性碳进行处理的活性碳处理步骤;将经过了该活性碳处理步骤的上述含有有机物的水通入反渗透膜分离装置的反渗透膜分离步骤。
申请公布号 CN101808946A 申请公布日期 2010.08.18
申请号 CN200880104512.5 申请日期 2008.08.07
申请人 栗田工业株式会社 发明人 育野望
分类号 C02F1/44(2006.01)I;B01D61/04(2006.01)I;C02F1/28(2006.01)I;C02F1/42(2006.01)I;C02F1/50(2006.01)I;C02F1/76(2006.01)I;C02F5/00(2006.01)I;C02F5/08(2006.01)I;C02F5/12(2006.01)I;C02F5/14(2006.01)I;C02F9/00(2006.01)I 主分类号 C02F1/44(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人 熊玉兰;孙秀武
主权项 含有有机物的水的处理方法,其中,所述含有有机物的水的处理方法包含以下步骤:在含有有机物的水中添加氧化剂的氧化剂添加步骤;将经过了该氧化剂添加步骤的上述含有有机物的水用活性碳进行处理的活性碳处理步骤;将经过了该活性碳处理步骤的上述含有有机物的水通入反渗透膜分离装置的反渗透膜分离步骤;其特征在于:在上述含有有机物的水的处理方法中,使用结合氯系氧化剂作为上述氧化剂。
地址 日本东京都