| 发明名称 | 成膜装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种成膜装置，其具有：包含两个电极在该两个电极之间产生等离子体通过DLC膜覆盖基板(90)的成膜部(54)；设置了多个该成膜部(54)的室(12)；以及具有电气电路(62)的脉冲电源部(60)，该电气电路(62)对这些多个成膜部(54)分别一一设置，在成膜部(54)的支撑电极(51)和对向电极(52)之间施加直流脉冲电压。 | ||
| 申请公布号 | CN101809197A | 申请公布日期 | 2010.08.18 |
| 申请号 | CN200980100392.6 | 申请日期 | 2009.02.25 |
| 申请人 | 日本碍子株式会社 | 发明人 | 齐藤隆雄;寺泽达矢 |
| 分类号 | C23C16/54(2006.01)I;C23C16/50(2006.01)I;C23C16/515(2006.01)I | 主分类号 | C23C16/54(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人 | 许静 |
| 主权项 | 一种成膜装置，其使用伴随等离子体中的离子移动而生成的规定的膜，覆盖由体积电阻率小于硅的金属材料形成的多个被处理物，其特征在于，具备：成膜部，其具备作为产生所述等离子体的电极的一方的、支撑所述被处理物的支撑电极，以及作为产生所述等离子体的电极的另一方的、与该支撑电极分离并且与该支撑电极对向的对向电极；设置了多个所述成膜部的封闭空间；对各个所述成膜部每个设置了一个，且在所述支撑电极和所述对向电极之间施加电压的单独电源。 | ||
| 地址 | 日本爱知县 | ||