一种金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置

摘要

本实用新型涉及用于金属薄板带在真空条件下表面物理气相沉积的领域。一种金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置，包括开卷机组(10)，其主要特点在于设置的真空镀膜室包括有1-3个A低真空室(20a)，1-3离子处理室(30)，1-5个B低真空室(40)，1-9个高真空室(50)，1-8个镀膜室(60)，1-3个A低真空室(20b)，室与室之间有法兰密封连接，并设有金属薄板带(1)通过的窗口(2)；1-3个A低真空室(20a)，1-3个离子处理室(30)，1-5个B低真空室(40)，1-5个高真空室(50)，1-5个镀膜室(60)，1-3个A低真空室(20b)与真空机组(90)相连；在真空镀膜室外还设有收卷机组(80)，连续镀膜的控制系统(100)。这种装置的优点在于：可在金属薄板带上镀多层膜、反应膜，膜层厚度可独立进行控制，膜层均匀致密，附着力强适合工业化生产。

主权项

一种金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置，包括开卷机组(10)，其特征在于设置的真空镀膜室包括有1-3个A低真空室(20a)，1-3个离子处理室(30)，1-5个B低真空室(40)，1-9个高真空室(50)，1-8个镀膜室(60)，1-3个A低真空室(20b)，室与室之间有法兰密封连接，并设有金属薄板带(1)通过的窗口(2)；1-3个A低真空室(20a)，1-3个离子处理室(30)，1-5个B低真空室(40)，1-5个高真空室(50)，1-5个镀膜室(60)，1-3个A低真空室(20b)与真空机组(90)相连；在真空镀膜室外还设有收卷机组(80)，连续镀膜的控制系统(100)。