METHOD OF FORMING SILICON QUANTUM DOT FOR SEMICONDUCTOR DEVICE,申请号KR20030049262-传众专利搜索

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发明名称	METHOD OF FORMING SILICON QUANTUM DOT FOR SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要
申请公布号	KR100976409(B1)	申请公布日期	2010.08.17
申请号	KR20030049262	申请日期	2003.07.18
申请人		发明人
分类号	H01L21/20	主分类号	H01L21/20
代理机构		代理人
主权项
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