| 发明名称 |
Atomic layer deposition of metal-containing films using surface-activating agents |
| 摘要 |
Atomic layer deposition processes for the formation of metal-containing films on surfaces are provided.
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| 申请公布号 |
US7776394(B2) |
申请公布日期 |
2010.08.17 |
| 申请号 |
US20060497859 |
申请日期 |
2006.08.01 |
| 申请人 |
E.I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY |
发明人 |
THOMPSON JEFFERY SCOTT |
| 分类号 |
C23C16/00;C07F3/00 |
主分类号 |
C23C16/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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