发明名称 HOCHEMPFINDLICHE RESISTZUSAMMENSETZUNGEN FÜR ELEKTRONENLITHOGRAPHIE
摘要
申请公布号 AT477517(T) 申请公布日期 2010.08.15
申请号 AT20020786917T 申请日期 2002.12.05
申请人 INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION 发明人 HUANG, WU-SONG;LI, WENJIE;MOREAU, WAYNE;MEDEIROS, DAVID;PETRILLO, KAREN;LANG, ROTBERT N.;ANGELOPOULOS, MARIE
分类号 G03F7/004;G03F7/039;G03F7/30 主分类号 G03F7/004
代理机构 代理人
主权项
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