| 摘要 |
Die Erfindung betrifft eine Anordnung zur Messung der Temperatur und des Dickenwachstums von Siliziumstäben in einem Silizium-Abscheidereaktor mit einem außerhalb des Reaktors befindlichen Phyrometer. Durch die Erfindung soll eine Anordnung geschaffen werden, mit der mit hinreichender Genauigkeit eine kontinuierliche Temperaturmessung sowie des Dickenwachstums während des gesamten Abscheideprozesses ermöglicht wird. Erreicht wird das dadurch, dass für die Temperaturmessung eine berührungslos arbeitende Temperatur-Messeinrichtung (4) vorgesehen ist, die außerhalb des Silizium-Abscheidereaktors vor einem Sichtfenster (2) angeordnet ist, dass die Temperatur-Messeinrichtung (4) mit einem Drehantrieb (9) horizontal um eine Drehachse (5) schwenkbar ist, wobei die Drehachse parallel zur Längsachse des Siliziumstabes (1) verläuft und wobei die Mittelachse (6) der Temperatur-Messeinrichtung durch die Drehachse (5) verläuft.
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