发明名称 阀装置;VALVE APPARATUS
摘要 本发明提供一阀装置(10),包括具有流道形成于其中的第一基部块体(14)、第二基部块体(18)与控制块体(22)。藉由连接该等块体的侧表面在一起俾使该等表面彼此相对,而将形成于该等块体各者之内部中的歧管(28)予以组构与连接,且将阀(12、16)安装于该第一基部块体(14)与该第二基部块体(18)的内部。再者,将衬垫(32)夹紧于该等互连部分各者之间,其中,该等衬垫系被固持成,与位于该衬垫(32)两侧的块体之外表面齐平、或凸出于该等外表面。
申请公布号 TWI328660 申请公布日期 2010.08.11
申请号 TW096137653 申请日期 2007.10.08
申请人 SMC股份有限公司 SMC KABUSHIKI KAISHA 日本 发明人 高田英幸;伊东喜彦
分类号 主分类号
代理机构 代理人 洪武雄 台北市中正区博爱路35号9楼;陈昭诚 台北市中正区博爱路35号9楼
主权项 1.一种阀装置,包括:复数个块体(14、22),具有流道(28)形成于该等块体中,其中,藉由将该等块体各者之侧表面连接在一起,俾使其表面彼此相对,该等块体各者之该等流道(28)系彼此相连通,且其中与该等流道(28)相连通之阀(12)系安装于该等复数个块体之至少其中一者的内部;密封构件(32),系被夹紧于该等块体各者之各个连接部之间,该密封构件(32)系被固持成,与位于该密封构件(32)两侧之块体的外表面齐平、或凸出于该等外表面;以及盖体(40),系可拆卸地设置于安装有该阀(12)于其中之块体(14)之一侧表面上,用以关闭供该阀(12)被插入与取出之开口;其中,朝向其外表面侧扩大宽度的倾斜部(41)系形成于该盖体(40)之接触该密封构件(32)之侧表面。 ;2.如申请专利范围第1项之阀装置,其中,该密封构件(32)包括:第一密封部(32a),系装配于沟槽(35)中,该沟槽(35)系沿着将密封构件(32)夹紧于其间之块体之每一侧表面之外部形状所形成;以及第二密封部(32b),系设置于该第一密封部(32a)之外侧并与定义该外部形状之边缘部(33)抵接。 ;3.如申请专利范围第2项之阀装置,其中,该第二密封部(32b)接触该盖体(40)之一部分系形成为朝向其外表面宽度变窄的渐窄形状。 ;4.如申请专利范围第1项之阀装置,进一步包括:孔(40b),系设置于该盖体(40)中;孔(12a),系设置于该阀(12)中,该孔系与该盖体(40)之孔同轴地对齐;以及螺丝(90),于该螺丝(90)已由该盖体(40)之该孔(40b)之上表面侧被插入,并且插穿该盖体(40)与该阀(12)之该等孔(40b、12a)之各者后,藉由使该螺丝(90)与设置于该块体(14)中之母螺纹(104)螺合而将该阀(12)固定至该块体(14);其中,螺纹部(90a)系形成为遍及从该螺丝(90)的端部起之预定长度;以及其中,能够供形成于该螺丝(90)中之螺纹部(90a)螺入之母螺纹(12b)系形成于设置在该阀(12)中之孔(12a)之内周面之至少一部分。;第1图系本发明之一实施例的阀装置之立体图;第2图系第1图所示之阀装置于分解状态之各结构元件之分解立体图;第3图系第1图所示之阀装置之底部平面视图;第4图系第2图所示之第一基部块体之立体图;第5图系第4图所示之第一基部块体于分解状态之各结构元件之分解立体图;第6A图系沿着第4图之VIA-VIA线之部分省略剖视图,而第6B图系将第6A图所示之阀与盖体由该基部被取出之状态下之省略部分的剖视图;第7图系第2图所示之衬垫之扩大立体图;第8A图系显示将第一基部块体与第二基部块体连接之状态之平面图,而第8B图系第8A图所示之第一基部块体与第二基部块体之前视图;第9图系沿着第8B图之IX-IX线之部分省略剖视图;第10图系沿着于第8B图之X-X线之部分省略剖视图;第11图系显示被第10图之圆圈XI包围之部分省略扩大剖视图;第12图系显示由第10图所示之第一基部块体与第二基部块体取出盖体之状态之部分省略剖视图;第13图系显示沿着第8A图之XIII-XIII线之部分省略剖视图;以及第14图系显示沿着第8A图之XIV-XIV线之部分省略剖视图。
地址 SMC KABUSHIKI KAISHA 日本