侦测化学机械研磨机台水槽上/下位置的装置及方法

摘要

本发明涉及一种侦测化学机械研磨机台水槽上/下位置的装置及方法，该装置包含：一个用于为研磨晶片提供无污染环境的水槽；一个用于控制上述水槽上下运动的气缸；一个安装于上述气缸的磁璜开关；一个用于实现侦测目的互锁信号电路；上述磁璜开关串联接入上述互锁信号电路中。当水槽处于上方位置时，磁璜开关导通，互锁信号回路导通，从而使得机台开始工作；当水槽处于下方位置时，磁璜开关不导通，互锁信号不满足，机台手臂无法归位继续生产，使得机台停止正常的生产状态。从而保证在操作人员没有升起水槽的状态下，机台无法工作，可以避免因水槽没有升起而导致产品的污染，以及机械手臂的刀片背面粘片造成的拖片掉片风险。

主权项

一种侦测化学机械研磨机台水槽上/下位置的装置，其特征在于该装置包含：一个用于为研磨晶片提供无污染环境的水槽；一个用于控制上述水槽上下运动的气缸；一个安装于上述气缸的磁璜开关；一个用于实现侦测目的的互锁信号电路；上述磁璜开关串联接入上述互锁信号电路中。