射频功率控制系统

摘要

本发明涉及射频功率控制系统。一种射频(RF)系统，包括分配M个预定频率间隔的控制模块。该系统还包括N个RF源，各个RF源以所述M个预定频率间隔中被指派的相应预定频率间隔内的频率向等离子体腔室内的电极施加第一RF功率。N个RF源中的各个RF源还响应包括来自所述等离子体腔室的反馈的第二RF功率。所述N个RF源各包括基于所述第二RF功率和所述M个预定频率间隔中的相应预定频率间隔来调整所述第一RF功率的处理模块。M和N是大于1的整数。

主权项

一种射频(RF)系统，包括：控制模块，分配M个预定频率间隔；以及N个RF源，各个RF源以所述M个预定频率间隔中被指派的相应预定频率间隔内的频率向等离子体腔室内的电极施加第一RF功率，并且各个RF源响应包括来自所述等离子体腔室的反馈的第二RF功率，其中所述N个RF源各包括处理模块，该处理模块基于所述第二RF功率和所述M个预定频率间隔中的相应预定频率间隔来调整所述第一RF功率，其中M和N是大于1的整数。