发明名称 槽栅型源-漏复合场板异质结场效应晶体管及其制作方法
摘要 本发明公开了一种槽栅型源-漏复合场板异质结场效应晶体管及其制作方法,该器件自下而上包括衬底(1)、过渡层(2)、势垒层(3)、源极(4)、漏极(5)、槽栅(7)、钝化层(8)、源场板(9)、漏场板(11)和保护层(12),该漏场板与漏极电气连接,该源场板与源极电气连接,其中,势垒层(3)上开有凹槽(6);源场板与漏场板之间的钝化层上淀积有n个浮空场板(10)。每个浮空场板大小相同,处于浮空状态,且按照等间距的方式分布于源场板与漏场板之间。n个浮空场板与源场板和漏场板在钝化层上通过一次工艺完成。本发明具有成品率高、可靠性好和输出功率高的优点,可制作基于宽禁带化合物半导体材料异质结的功率器件。
申请公布号 CN101414623B 申请公布日期 2010.08.11
申请号 CN200810232526.7 申请日期 2008.12.01
申请人 西安电子科技大学 发明人 郝跃;毛维;过润秋;杨
分类号 H01L29/772(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I;H01L21/335(2006.01)I 主分类号 H01L29/772(2006.01)I
代理机构 陕西电子工业专利中心 61205 代理人 王品华;朱红星
主权项 一种槽栅型源-漏复合场板异质结场效应晶体管,包括衬底(1)、过渡层(2)、势垒层(3)、源极(4)、漏极(5)、槽栅(7)、钝化层(8)、源场板(9)、漏场板(11)和保护层(12),该漏场板(11)与漏极(5)电气连接,该源场板(9)与源极(4)电气连接,其特征在于,势垒层(3)上开有凹槽(6),该凹槽(6)的深度D小于势垒层的厚度,槽栅(7)与凹槽(6)两端的间距分别为R1和R2,R1的长度为0~2.5μm,R2的长度为0~4μm,并且R1≤R2;源场板与漏场板之间的钝化层上淀积有n个浮空场板(10),n≥1,每个浮空场板大小相同,相互独立,各浮空场板按照相邻两浮空场板之间的间距均为0.11~2.8μm的方式等间距分布于源场板与漏场板之间,这些场板构成源-漏复合场板结构。
地址 710071 陕西省西安市太白路2号