成膜装置和成膜方法

摘要

本发明的成膜装置(100)具备收容晶片(W)的处理腔室(2)、向处理腔室(2)内供给含有Cu原料气体和Mn原料气体的气体的气体供给部(10)、向处理腔室(2)内导入来自气体供给部(10)的气体的喷头(4)、和对处理腔室(2)内进行排气的真空泵(8)。气体供给部(10)具有Cu原料储存部(21)、Mn原料储存部(22)、Cu原料和Mn原料被导入混合的总管(40)、使在总管(40)形成的混合体气化的一个气化器(42)、和将被气化形成的原料气体导入喷头(4)的原料气体供给配管(54)。

主权项

一种成膜装置，其用于向被处理基板上供给含有Cu原料气体和Mn原料气体的气体，形成CuMn膜，其特征在于，具备：收容被处理基板的处理容器；气体供给部，其用于向处理容器内供给含有Cu原料气体和Mn原料气体的气体；气体导入部，其用于向所述处理容器内导入来自所述气体供给部的气体；和对所述处理容器内进行排气的排气机构，其中，所述气体供给部具有：储存液态的Cu原料的Cu原料储存部；储存液态的Mn原料的Mn原料储存部；使所述Cu原料和所述Mn原料气化的一个气化器；从所述Cu原料储存部和所述Mn原料储存部向所述气化器导入Cu原料和Mn原料的原料供给单元；和从所述气化器向所述气体导入部导入Cu原料气体和Mn原料气体的原料气体供给配管。