发明名称 | 双图案设计中的单元边界隔离的方法 | ||
摘要 | 针对芯片布局设计双图案掩模组的方法包括设计标准单元。在每个标准单元中,所有的左边界图案都分配有第一标记和第二标记中的一个,而所有右边界图案都分配有第一标记和第二标记中的另一个。该方法还包括:在芯片布局的行中放置标准单元。从行中的一个标准单元开始,贯穿整行来传播针对标准单元的标记改变。具有第一标记的标准单元中的所有图案都被转印到双图案掩模组的第一掩模。具有第二标记的标准单元中的所有图案都被转印到双图案掩模组的第二掩模。 | ||
申请公布号 | CN101799623A | 申请公布日期 | 2010.08.11 |
申请号 | CN201010106556.0 | 申请日期 | 2010.01.28 |
申请人 | 台湾积体电路制造股份有限公司 | 发明人 | 鲁立忠;郑仪侃;侯元德;侯永清;田丽钧 |
分类号 | G03F1/14(2006.01)I | 主分类号 | G03F1/14(2006.01)I |
代理机构 | 北京市德恒律师事务所 11306 | 代理人 | 梁永 |
主权项 | 一种针对芯片布局设计双图案掩模组的方法,所述方法包括:指定第一图案组;指定第二图案组;指定包括左边界和右边界的单元,其中,所述单元中的所有左边界图案都在所述第一图案组和所述第二图案组的同一个中,以及所述单元中的所有右边界图案都在所述第一图案组和所述第二图案组的同一个中;将所述左边界图案转移到所述第一图案组和所述第二图案组中的不同图案组;将所述右边界图案转移到所述第一图案组和所述第二图案组中的不同图案组;将所述第一图案组中的图案转印到所述双图案掩模组的第一掩模;以及将所述第二图案组中的图案转印到所述双图案掩模组的第二掩模。 | ||
地址 | 中国台湾新竹 |