发明名称 |
一种离线测量成像系统最佳物面的方法和装置 |
摘要 |
一种离线测量成像系统最佳物面的装置和方法,该装置包括光源模块,该模块能发出多个不同波长的激光;光耦合装置,耦合光源模块发出的激光,形成照明光斑;针孔掩模,其上具有m×n小孔阵列,接收光耦合装置形成的照明光斑;投影物镜,对针孔掩模进行成像,投影物镜的视场大小与针孔掩模上的小孔阵列的分布大小相同;传感器,接收投影物镜所成的像,并能测量像点的位置;根据掩模板上小孔位置和像点位置,所述装置能拟合出对应当前波长和掩模面高度的放大倍率。利用拟合得到的多个波长的放大倍率进行仿真,得到对应的掩模面位置,根据当前掩模面位置以及理论最佳物面高度差,进行掩模面高度调整,确定倍率色差最小值对应的掩模面位置为最佳物面。 |
申请公布号 |
CN101799633A |
申请公布日期 |
2010.08.11 |
申请号 |
CN201010124081.8 |
申请日期 |
2010.03.15 |
申请人 |
上海微电子装备有限公司 |
发明人 |
兰艳平;刘国淦 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 |
北京连和连知识产权代理有限公司 11278 |
代理人 |
王光辉 |
主权项 |
一种离线测量成像系统最佳物面的装置,该装置包括:光源模块,该模块能发出多个不同波长的激光;光耦合装置,耦合光源模块发出的激光,形成照明光斑;针孔掩模,其上具有m×n小孔阵列,接收光耦合装置形成的照明光斑;投影物镜,对针孔掩模进行成像,投影物镜的视场大小与针孔掩模上的小孔阵列的分布大小相同;传感器,接收投影物镜所成的像,并能测量像点的位置;掩模运动平台,调整掩模的位置;传感器运动平台,能带动传感器和掩模运动平台进行同步扫描;根据掩模板上小孔位置和像点位置,所述装置能拟合出对应当前掩模面高度的放大倍率。 |
地址 |
201203 上海市浦东区张江高科技园区张东路1525号 |