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发明名称
apparatus for making etching area on substrate
摘要
申请公布号
KR100975429(B1)
申请公布日期
2010.08.11
申请号
KR20080051006
申请日期
2008.05.30
申请人
发明人
分类号
H01L21/67;H01L21/02
主分类号
H01L21/67
代理机构
代理人
主权项
地址
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