一种用于套刻精度的透镜成像系统及其反馈和校准方法

摘要

本发明公开了一种用于套刻精度的透镜成像系统及其反馈和校准方法，该系统包括：主透镜、傅立叶平面附近的45度角度分束板、45度角度反光镜、投影透镜、焦平面空间像收集探测器阵列、附属照明光源、和计算模块；该方法首先将掩膜板平面上的套刻标记通过光刻机投影透镜投射到硅片表面，再通过硅片表面反射回来，并且通过所述45度角度分束板成像到所述焦平面空间像探测器阵列上，同时将硅片平台上的套刻标记的像通过所述45度角度分束板成像到所述焦平面空间像探测器阵列上；然后由计算模块将上述两组像的中心进行比较，并计算得出套刻精度数据。本发明可以提高套刻精度的反馈效率，降低产品的返工率。

主权项

一种套刻精度的反馈和校准方法，运用于透镜成像系统，其特征在于，包括：首先将掩膜板平面上的套刻标记的图像通过光刻机投影透镜投射到硅片表面，再通过硅片表面反射回来，并且通过45度角度分束板投影到焦平面空间像探测器阵列上，同时将硅片平台上的套刻标记的图像通过所述45度角度分束板投影到所述焦平面空间像探测器阵列上；然后由计算模块将上述两组图像的中心位置值进行比较，并计算得出套刻精度数据。