显影装置、显影处理方法和存储介质

摘要

本发明提供一种显影装置、显影处理方法和存储介质。在将显影液供给至形成有抗蚀剂膜、进行过曝光处理的基板的表面进行显影处理时，即使为表面疏水性高的基板，也能抑制基板表面的显影液的液体飞溅和液体弹起，使显影液与基板在面内均匀接触。从显影液喷嘴将显影液供给至绕铅垂轴旋转的基板表面进行显影处理，从设置在相比于该显影液喷嘴离开基板外周侧的位置的纯水喷嘴向基板上供给纯水，限制基板上的显影液的液流，将显影液的液流向基板的旋转方向扩张，在基板上形成由这些显影液和纯水构成的液膜。此时，使显影液喷嘴与纯水喷嘴分离，以抑制由供给至基板上的显影液与纯水的碰撞而引起的液体飞溅。

主权项

一种显影装置，其将显影液供给至形成有抗蚀剂膜、进行过曝光处理的基板进行显影处理，其特征在于，包括：水平地保持基板的基板保持部；通过该基板保持部使基板绕铅垂轴旋转的旋转机构；用于对该基板保持部上的基板供给显影液的第一喷嘴；第二喷嘴，其设置成在使该第一喷嘴位于所述基板保持部上的基板的中央部时、相比于该第一喷嘴处于离开基板外周侧的位置，将用于对供给至所述基板上的显影液的液流进行限制的液流限制用液体供给至基板表面；喷嘴保持机构，其用于以第一喷嘴的喷出口和第二喷嘴的喷出口之间的分离距离为13mm～33mm的方式保持所述第一喷嘴和所述第二喷嘴，使这些喷嘴在基板的中央部和周边部之间移动；和控制部，其输出控制信号以实行下述步骤：在使所述基板绕铅垂轴旋转的状态下，通过一边从所述第一喷嘴将显影液喷出至基板的中央部，一边从所述第二喷嘴将液流限制用液体供给至基板，进行预湿的步骤；和接着一边使基板旋转一边从所述第一喷嘴将显影液供给至基板上进行显影的步骤。