涂膜形成方法

摘要

本发明提供涂膜形成方法，其不会发生长期耐久性和耐候性等性质的降低，能够谋求涂膜固化时间的缩短，谋求涂布设备的缩小化和CO2减少。上述涂膜形成方法具有如下工序：(1)在被涂物上涂布底涂涂料；(2)在底涂层上涂布顶涂涂料；(3)在未固化涂膜上进行能量线照射；和(4)烘烤固化，其中，上述顶涂涂料含有：含羟基树脂(A)、具有不饱和键的活性能量线固化性化合物(B)和多异氰酸酯化合物(C)，上述含羟基树脂(A)的玻璃化转变温度(Tg)为-20～50℃，重均分子量为10000～30000，羟值为80～230(KOHmg/g)，以羟值基准计伯羟基/仲羟基＝30/70～80/20，上述多异氰酸酯化合物(C)的每一个分子的平均异氰酸酯基数为2.5～3.4，多异氰酸酯化合物(C)的异氰酸酯基与含羟基树脂(A)的羟基的当量比(NCO/OH)为1.2～3.0，以重量比计((A)+(C))/(B)＝90/10～50/50。

主权项

一种涂膜形成方法，其具有如下工序：(1)在被涂物上涂布底涂涂料的工序；(2)在通过所述工序(1)形成的底涂层上涂布顶涂涂料的工序；(3)在通过所述工序(1)、(2)形成的未固化涂膜上进行能量线照射的工序；和(4)在所述工序(3)后烘烤固化的工序，其特征在于，所述顶涂涂料含有：含羟基树脂(A)、具有不饱和键的活性能量线固化性化合物(B)和多异氰酸酯化合物(C)，所述含羟基树脂(A)的玻璃化转变温度(Tg)为-20℃～50℃，重均分子量为10000～30000，羟值为80～230(KOHmg/g)，以羟值基准计，伯羟基与仲羟基的比为伯羟基/仲羟基＝30/70～80/20，所述多异氰酸酯化合物(C)的每一个分子的平均异氰酸酯基数为2.5～3.4，多异氰酸酯化合物(C)的异氰酸酯基与含羟基树脂(A)的羟基的当量比(NCO/OH)为1.2～3.0，以重量比计，(A)、(B)、(C)的混合比例为((A)+(C))/(B)＝90/10～50/50。