| 发明名称 | 光刻设备和器件制造方法 | ||
| 摘要 | 公开了一种光刻设备，该光刻设备被布置以将图案从图案形成装置投影到衬底上。所述光刻设备包括照射系统(IL)和出口，该出口连接至抽吸系统(78)，抽吸系统(78)用于从照射系统(IL)的内壁(64)和外壁(62)之间抽出气体，或如果存在辐射源(SO)，则抽吸系统(78)用于从照射系统(IL)的内壁(64)和辐射源(SO)的内壁(62)之间抽出气体。 | ||
| 申请公布号 | CN101802716A | 申请公布日期 | 2010.08.11 |
| 申请号 | CN200880107275.8 | 申请日期 | 2008.09.17 |
| 申请人 | ASML荷兰有限公司 | 发明人 | Y·J·G·范德维杰威;T·A·R·范因佩尔;J·B·P·范斯库特;G·H·P·M·斯温克尔斯;H·G·诗密尔;D·莱伯斯克依 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I;H05G2/00(2006.01)I;G21K1/00(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 王新华 |
| 主权项 | 一种光刻设备，所述光刻设备被布置以将图案从图案形成装置投影到衬底上，所述光刻设备包括：照射系统，所述照射系统被配置以调节来自辐射源的辐射，所述照射系统具有背离所述辐射源的内壁和面向所述辐射源的外壁，所述内壁和外壁具有开孔，以允许来自所述辐射源的辐射穿过进入所述照射系统；出口，所述出口设置在所述开孔处或所述开孔附近，且所述出口设置在所述照射系统的所述内壁和所述外壁之间，或如果所述光刻设备包括所述辐射源，则所述出口设置在所述照射系统的内壁和面向所述辐射源且靠近所述照射系统的所述内壁的所述辐射源的内壁之间；抽吸系统，所述抽吸系统被配置以通过所述出口从所述照射系统和/或所述辐射源抽出气体；和支撑结构，所述支撑结构被构造以保持所述图案形成装置，所述图案形成装置能够在所述辐射的横截面中将图案赋予所述辐射，以形成图案化的辐射束。 | ||
| 地址 | 荷兰维德霍温 | ||