发明名称 集成电路叠层及其热管理
摘要 本发明涉及集成电路叠层(1),其包括多个集成电路层(2)以及设置在两个电路层(2)之间的空间中的至少一个冷却层(3)。利用泵送冷却流体(10)通过冷却层(3)来冷却集成电路叠层(1)。本发明还涉及最优化这样的集成电路叠层(1)的配置的方法。
申请公布号 CN101803019A 申请公布日期 2010.08.11
申请号 CN200880106545.3 申请日期 2008.09.17
申请人 国际商业机器公司 发明人 T·J·布鲁斯克威勒;R·J·林德曼;B·米歇尔;H·E·罗素森
分类号 H01L25/065(2006.01)I;H01L23/473(2006.01)I 主分类号 H01L25/065(2006.01)I
代理机构 北京市中咨律师事务所 11247 代理人 于静;杨晓光
主权项 一种集成电路叠层(1),包含:多个集成电路层(2),其至少包含电连接第二电路层(2b)的第一电路层(2a),所述第一电路层(2a)具有产生较高热的至少一个第一区域(11)以及产生较低热的至少一个第二区域(12),以及设置在所述第一与第二电路层(2a,2b)之间的空间中的至少一个冷却层(3),所述冷却层(3)包含至少一个流体入口(4)和至少一个流体出口(5)以及液压连接所述流体入口(4)与所述流体出口(5)的中空空间(20),以使用冷却流体(10)冷却至少所述第一电路层(2a),其中所述至少一个冷却层(3)包含用于在所述中空空间(20)中产生所述冷却流体(10)的非均匀流动图形的装置,使所述第一电路层(2a)的所述第一区域(11)中的传热比所述第一电路层(2a)的所述第二区域(12)中的传热高。
地址 美国纽约