| 发明名称 | 用于化学相沉积过程的有机金属前体 | ||
| 摘要 | 提供了有机金属前体。所述前体在结构上对应于式I：Cp(R)nM(CO)2(X)，其中M是Ru、Fe或O s；R是C1-C10-烷基；X是C1-C10-烷基；且n是1、2、3、4或5。所述前体能用于化学相沉积过程，例如原子层沉积(ALD)和化学蒸气沉积(CVD)。 | ||
| 申请公布号 | CN101801988A | 申请公布日期 | 2010.08.11 |
| 申请号 | CN200880106411.1 | 申请日期 | 2008.07.24 |
| 申请人 | 西格玛-奥吉奇公司 | 发明人 | R·坎卓利亚;R·奥迪德拉;N·宝格 |
| 分类号 | C07F15/00(2006.01)I;C07F15/02(2006.01)I;C23C16/16(2006.01)I;C23C16/18(2006.01)I;C23C16/455(2006.01)I | 主分类号 | C07F15/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人 | 郭建新 |
| 主权项 | 在结构上对应于式I的有机金属前体：Cp(R)nM(CO)2(X)(式I)其中：M是Ru、Fe或Os；R是C1-C10-烷基；X是C1-C10-烷基；和n是1、2、3、4或5。 | ||
| 地址 | 美国密苏里州 | ||