发明名称 | 用于计算机硬盘基片抛光后表面的钝化液组合物 | ||
摘要 | 本发明公开了一种用于计算机硬盘基片抛光后表面的钝化液组合物,特别是适用于Ni-P镀敷的计算机硬盘基片抛光后表面的钝化液组合物;属计算机硬盘表面清洗技术领域。本发明的钝化液的组成特点是含有氧化剂、缓蚀剂和表面活性剂及去离子水。其各组分的百分含量为:氧化剂0.05~5.0%;缓蚀剂:0.05~3.0%;表面活性剂0.01~1.0%;去离子水余量。本发明的钝化液组合物对抛光后的计算机硬盘基片进行钝化处理后,可以提高表面的易清洗性,有效降低表面残留的微缺陷数量。 | ||
申请公布号 | CN101319320B | 申请公布日期 | 2010.08.11 |
申请号 | CN200810040011.7 | 申请日期 | 2008.07.01 |
申请人 | 上海大学 | 发明人 | 雷红 |
分类号 | C23C22/06(2006.01)I | 主分类号 | C23C22/06(2006.01)I |
代理机构 | 上海上大专利事务所(普通合伙) 31205 | 代理人 | 顾勇华 |
主权项 | 一种用于计算机硬盘基片抛光后表面的钝化液组合物,其特征在于具有以下的组成及重量百分含量:氧化剂:0.05~5.0%;所述的氧化剂为双氧水;缓蚀剂:0.05~3.0%;所述的缓蚀剂为甘氨酸、硫脲、氨基磺酸、十二烷基聚氧乙烯醚磷酸酯或羟基苯并三氮唑;表面活性剂:0.01~1.0%;所述的表面活性剂为烷基硫酸钠、烷基聚氧乙烯醚羧酸钾、或烷基聚氧乙烯醚中的任一种。去离子水:余量。 | ||
地址 | 200444 上海市宝山区上大路99号 |