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<p>Gegenstand der Erfindung ist ein Verfahren zur Herstellung von Silylorganoaminen der allgemeinen Formel (1) R'3-nR1 nSi-R2-NR3-R4-SiR"3-mR5 m (1), durch Umsetzung von (Aminoorganyl) silanen der allgemeinen Formel (2), H-NR3-R4-SiR"3-mR5 m (2) mit (Halogenorganyl) silanen der allgemeinen Formel (3) R'3-nR1 nSi-R2-X (3), wobei R', R'', R1, R2, R3, R4, R5, X, m und n die in Anspruch 1 angegebenen Bedeutungen aufweisen, wobei die Umsetzung die folgenden Schritte umfasst: a) Umsetzung des (Halogenorganyl) silans der allgemeinen Formel (3) und des (Aminoorganyl) silans der allgemeinen Formel (2) bei einer Temperatur von 0 bis 25O°C, wobei neben dem Silylorganoamin der allgemeinen Formel (1) als Nebenprodukt das Ammoniumhalogenid des (Aminoorganyl) silans der allgemeinen Formel (2) gebildet wird, b) Zugabe einer Base (B), wobei es zu einer vollständigen oder partiellen Umsalzung kommt, bei der das (Aminoorganyl) silan der allgemeinen Formel (2) wieder freigesetzt wird und sich das Halogenid der Base (B) bildet, wobei das Halogenid der Base (B) bei Temperaturen von höchstens 200°C flüssig ist und c) Abtrennung des gebildeten flüssigen Halogenids der Base (B).</p> |
