光刻装置和器件制造方法

摘要

本发明公开了一种光刻投影装置。该装置包括一配置成调节辐射光束的照射系统和一配置成支撑构图部件的支撑结构。该构图部件用于在辐射光束的横截面将图案赋予给辐射光束。该装置还包括一配置成保持基底的基底台，一配置成将带图案的光束投影到基底的靶部上的投影系统，以及一配置成将流体提供给一个容积的流体供给系统。该容积包括至少一部分投影系统和/或至少一部分照射系统。该装置还包括一配置成将流体供给系统连接到基底台、基底、支撑结构、构图部件、或其任何组合的连接部件。

主权项

一种光刻装置，包括：一配置成调节辐射光束的照射系统；一配置成支撑构图部件的支撑结构，该构图部件在辐射光束的横截面将图案赋予给辐射光束；一配置成保持基底的基底台；一配置成将带图案的光束投影到基底的靶部上的投影系统；一配置成将流体提供给一个容积的流体供给系统，该容积包括至少一部分投影系统，至少一部分照射系统，或上述两者；其中，流体供给系统包括一气体净化系统，其配置成将气体提供给一净化容积，该净化容积包括至少一部分投影系统、至少一部分照射系统或上述两者，其中净化系统包括一净化罩，还包括一配置成沿第三方向提升所述净化罩的致动装置，该第三方向沿与一区域成一角度的方向延伸，在该区域中布置了基底台、支撑结构或上述两者，在使用中，当使基底台与第二基底台交换时，致动装置配置成提升所述净化罩；以及一配置成将流体供给系统连接到基底台、基底、支撑结构、构图部件、或其任何组合的连接部件；其中连接部件包括一气体轴承。