| 发明名称 | 工件台及使用该工件台的曝光装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种工件台及使用该工件台的曝光装置，即使为已翘曲成碗形的工件或周边部呈波状变形的工件，也可矫正工件的翘曲，而吸附保持工件全面。本发明的工件台，通过真空吸附来吸附保持工件的工件台，其特征为具有：第1真空吸附孔群(61)，在吸附保持工件的工件台(6)表面，以放射状配置有多列由与第1配管相连接的多个真空吸附孔(X)所构成的真空吸附孔列；第2真空吸附孔群(Y)，形成于由第1真空吸附孔群(61)所隔着的区域，并与第2配管相连接；及控制部，在吸附保持工件时，由第1配管对第1真空吸附孔群(61)供给真空，接着，由第2配管对第2真空吸附孔群(62)供给真空。 | ||
| 申请公布号 | CN101794726A | 申请公布日期 | 2010.08.04 |
| 申请号 | CN201010005407.5 | 申请日期 | 2010.01.19 |
| 申请人 | 优志旺电机株式会社 | 发明人 | 中谷猛 |
| 分类号 | H01L21/683(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/683(2006.01)I |
| 代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人 | 黄剑锋 |
| 主权项 | 一种工件台，通过真空吸附来吸附保持工件，其特征在于，具有：第1真空吸附孔群，在吸附保持工件的工件台表面，以放射状配置有多列由与第1配管相连接的多个真空吸附孔构成的真空吸附孔列；第2真空吸附孔群，形成于由上述第1真空吸附孔群所隔着的区域，并与第2配管相连接；及控制部，在吸附保持上述工件时，由上述第1配管对上述第1真空吸附孔群供给真空，接着，由上述第2配管对上述第2真空吸附孔群供给真空。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||