发明名称 用于在过程管线中流动的介质的测量系统
摘要 测量系统,用于测量在过程管线中流动的介质的密度,该介质沿着测量系统的虚拟流动轴线在热力学状态方面是可变的,特别地至少部分是可压缩的。测量系统为此包括:至少一个温度传感器,其放置于温度测量点,主要对于流经的介质的局部温度θ作出反应,该温度传感器提供至少一个由被测介质的局部温度影响的温度测量信号;至少一个压力传感器,其放置于压力测量点,主要对于流经的介质的局部的特别是静态的压力p作出反应,该压力传感器提供至少一个由被测介质的局部压力p影响的压力测量信号;以及测量电子装置,其至少间歇地与至少温度传感器和压力传感器通信。通过使用所述温度测量信号以及至少所述压力测量信号,测量电子装置至少间歇地产生至少一个特别是数字的密度测量值,其瞬时代表流动的介质在特别是位置固定的虚拟的密度测量点所具有的局部密度ρ,密度测量点沿着流动轴线以可预定的方式与压力测量点和/或温度测量点相距设置。
申请公布号 CN101796386A 申请公布日期 2010.08.04
申请号 CN200880021881.8 申请日期 2008.06.27
申请人 恩德斯+豪斯流量技术股份有限公司 发明人 赖纳·霍克
分类号 G01N9/00(2006.01)I 主分类号 G01N9/00(2006.01)I
代理机构 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人 邹璐;樊卫民
主权项 测量系统,用于测量在过程管线中流动的介质的密度,该介质沿着测量系统的虚拟流动轴线在热力学状态方面是可变的,特别地至少部分是可压缩的,该测量系统包括:-至少一个温度传感器,其放置于温度测量点(Mθ),主要对于流经的介质的局部温度θ作出反应,该温度传感器发出至少一个由被测介质的局部温度影响的温度测量信号(xθ);-至少一个压力传感器,其放置于压力测量点(Mp),主要对于流经的介质的局部的特别是静态的压力p作出反应,该压力传感器发出至少一个由被测介质中的局部压力p影响的压力测量信号(xp);以及-测量电子装置,其至少间歇地至少与温度传感器和压力传感器通信,该测量电子装置通过使用所述温度测量信号以及至少所述压力测量信号而至少间歇地产生至少一个特别是数字的密度测量值(Xρ),其瞬时代表流动的介质在特别是位置固定的虚拟的密度测量点(M′ρ)所具有的局部密度ρ,该密度测量点以可预定的方式沿着流动轴线与压力测量点(Mp)和/或温度测量点(Mθ)相距设置。
地址 瑞士赖纳赫