发明名称 |
具有折射率梯度的玻璃基材和其制造方法 |
摘要 |
本发明涉及玻璃基材,其包括至少一种离子图案,该离子图案通过用来源于外部源的银离子交换玻璃的碱金属离子的处理获得,所述基材由具有特定组成的玻璃形成并且所述离子图案具有大于或等于0.03的折射率的变化,大于或等于100μm的深度和大于或等于60%的在410nm的透光系数(TL410)。 |
申请公布号 |
CN101795986A |
申请公布日期 |
2010.08.04 |
申请号 |
CN200880105431.7 |
申请日期 |
2008.09.03 |
申请人 |
法国圣戈班玻璃厂 |
发明人 |
J·塞利尔;J·拉兰德;R·吉;D·勒考维奥 |
分类号 |
C03C3/078(2006.01)I;C03C3/083(2006.01)I;C03C3/085(2006.01)I;C03C3/087(2006.01)I;C03C21/00(2006.01)I |
主分类号 |
C03C3/078(2006.01)I |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 72001 |
代理人 |
刘维升;林森 |
主权项 |
玻璃基材,其包括至少一种离子图案,该离子图案通过用来源于外部源的银离子交换玻璃的碱金属离子的处理获得,特征在于所述基材由具有以下组成的玻璃构成,按重量百分比计:SiO2 67.0-73.0%,优选地70.0-72.0%;Al2O3 0-3.0%,优选地0.4-2.0%;CaO 7.0-13.0%,优选地8.0-11.0%;MgO 0-6.0%,优选地3.0-5.0%;Na2O 12.0-16.0%,优选地13.0-15.0%;K2O 0-4.0%;TiO2 0-0.1%;总铁量(以Fe2O3表示)0-0.03%,优选地0.005-0.01%;氧化还原体系(FeO/总铁量)0.02-0.4,优选地0.02-0.2;Sb2O3 0-0.3%;CeO2 0-1.5%;SO3 0-0.8%,优选地0.2-0.6%,并且特征在于所述离子图案具有大于或等于0.03的折射率的变化,大于或等于100μm的深度和大于或等于60%的在410nm的透光系数(TL410)。 |
地址 |
法国库伯瓦 |