静电吸盘装置中的气体供给结构的制造方法及静电吸盘装置气体供给结构以及静电吸盘装置

摘要

本发明提供一种静电吸盘装置静电吸盘装置、静电吸盘装置气体供给结构以及其制造方法，该静电吸盘装置具备静电吸盘，防止冷却气体喷出量不均匀和喷镀材料等堆积导致污染。该气体供给结构用于将从金属底座的下表面侧供给的冷却气体通过金属底座具备的气体供给通路供给到在上部绝缘层侧吸附的基板的背面。在进行在金属底座的上表面侧喷镀陶瓷粉末而形成下部绝缘层的工序、形成吸附电极的工序、以及形成上部绝缘层的工序之前，用包含由与下部绝缘层的形成中采用的陶瓷粉末相同的材料构成的填充材料的粘接剂封闭金属底座的上表面侧的气体供给通路出口；在形成上部绝缘层后，从上部绝缘层侧向金属底座的气体供给通路出口开孔，形成连通气体供给通路的贯通孔。

主权项

一种静电吸盘装置中的气体供给结构的制造方法，是在金属底座的上表面侧层叠具有下部绝缘层、吸附电极及上部绝缘层的静电吸盘而形成的静电吸盘装置中，用于将从金属底座的下表面侧供给的冷却气体通过金属底座所具备的气体供给通路供给到吸附在上部绝缘层侧的基板的背面的气体供给结构的制造方法，其特征在于，在进行在金属底座的上表面侧喷镀陶瓷粉末而形成下部绝缘层的工序、形成吸附电极的工序、以及形成上部绝缘层的工序之前，用包含了由与下部绝缘层的形成中采用的陶瓷粉末相同的材料构成的填充材料的粘接剂封闭金属底座的上表面侧的气体供给通路出口；在形成上部绝缘层后，从上部绝缘层侧向金属底座的气体供给通路出口开孔而形成连通气体供给通路的贯通孔。