发明名称 |
用于纠正布局中的辅助特征印刷错误的方法和设备 |
摘要 |
本发明公开了一种用于纠正布局中的辅助特征印刷错误的方法和设备。本发明的一个实施例提供一种调节布局中的辅助特征以防止印刷辅助特征的系统。在操作期间,系统接收布局。系统然后标识布局中的辅助特征(AF)印刷热点,其中AF印刷热点包括辅助特征集合和与辅助特征集合邻近的一个或者多个目标图案。预计在光刻工艺期间印刷辅助特征集合中的至少一个辅助特征。接着,系统通过以下操作来修改AF印刷热点:(1)修改辅助特征集合;并且(2)对一个或者多个目标图案进行光学邻近纠正(OPC)。系统然后对修改的AF印刷热点进行光刻仿真以确定:(1)与修改的AF印刷热点关联的贯穿工艺窗口是否可接受;并且(2)预计是否不印刷修改的辅助特征集合中的辅助特征。如果是这样,则系统用修改的AF印刷热点取代AF印刷热点。 |
申请公布号 |
CN101794323A |
申请公布日期 |
2010.08.04 |
申请号 |
CN200910174915.3 |
申请日期 |
2009.10.29 |
申请人 |
新思科技有限公司 |
发明人 |
S·琼;L·D·巴尔内斯;李小海;R·卢格;S·李 |
分类号 |
G06F17/50(2006.01)I;H01L21/00(2006.01)I |
主分类号 |
G06F17/50(2006.01)I |
代理机构 |
北京市金杜律师事务所 11256 |
代理人 |
王茂华;郑菊 |
主权项 |
一种用于自动调节布局中的辅助特征以防止印刷辅助特征的方法,所述方法包括:接收布局;标识所述布局中的辅助特征(AF)印刷热点,其中所述AF印刷热点包括辅助特征集合和与所述辅助特征集合邻近的一个或者多个目标图案,其中预计在光刻工艺期间印刷所述辅助特征集合中的至少一个辅助特征;通过以下操作来修改所述AF印刷热点:修改所述辅助特征集合;并且对所述一个或者多个目标图案进行光学邻近纠正(OPC);对所述修改的AF印刷热点进行光刻仿真以确定:与所述修改的AF印刷热点关联的贯穿工艺窗口是否可接受;并且预计是否不印刷所述修改的辅助特征集合中的辅助特征;并且如果是这样,则用所述修改的AF印刷热点取代所述AF印刷热点。 |
地址 |
美国加利福尼亚州 |