| 发明名称 |
Determining copper concentration in spectra |
| 摘要 |
Methods of subtracting the copper contribution to spectra obtained from a substrate during chemical mechanical polishing are described.
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| 申请公布号 |
US7768659(B2) |
申请公布日期 |
2010.08.03 |
| 申请号 |
US20070868911 |
申请日期 |
2007.10.08 |
| 申请人 |
APPLIED MATERIALS, INC. |
发明人 |
BENVEGNU DOMINIC J.;DAVID JEFFREY DRUE;SWEDEK BOGUSLAW A.;ZHANG JIMIN;LEE HARRY Q. |
| 分类号 |
G01B9/08;G01B11/28 |
主分类号 |
G01B9/08 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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